Kaedah BAHAGIAN/1CVD (Pemendapan Wap Kimia): Pada 900-2300℃, menggunakan TaCl5 dan CnHm sebagai sumber tantalum dan karbon, H₂ sebagai atmosfera penurun, gas pembawa Ar₂as, filem pemendapan tindak balas.Salutan yang disediakan adalah padat, seragam dan ketulenan tinggi.Namun, terdapat beberapa masalah...
Baca lagi