TheMOCVDkaedah adalah salah satu proses paling stabil yang digunakan dalam industri pada masa ini untuk mengembangkan filem nipis kristal tunggal berkualiti tinggi, seperti epilayer InGaN fasa tunggal, bahan III-N, dan filem semikonduktor dengan struktur telaga berbilang kuantum, dan sangat penting dalam pembuatan peranti semikonduktor dan optoelektronik.
TheSusceptor MOCVD salutan SiCialah pemegang wafer khusus yang disalut dengan silikon karbida (SiC) untukepitaxial pertumbuhan dalam proses pemendapan wap kimia organik logam (MOCVD).
Salutan SiC mempunyai rintangan kimia yang sangat baik dan kestabilan haba, menjadikannya pilihan ideal untuk susceptor MOCVD yang digunakan dalam menuntut proses pertumbuhan epitaxial.
Komponen utama proses MOCVD ialah susceptor, yang merupakan elemen utama untuk memastikan keseragaman dan kualiti filem nipis yang dihasilkan.
Apakah susceptor? Susceptor ialah komponen khusus yang digunakan dalam proses MOCVD untuk menyokong dan memanaskan substrat di mana filem nipis dimendapkan. Ia mempunyai pelbagai fungsi, termasuk menyerap tenaga elektromagnet, menukarkannya kepada haba, dan mengagihkan haba secara sama rata pada substrat. Pemanasan seragam ini penting untuk pertumbuhan filem nipis seragam dengan ketebalan dan komposisi yang tepat.
Jenis suseptor:
1. Suseptor grafit: Suseptor grafit selalunya disalut dengan lapisan pelindung sepertisilikon karbida (SiC), yang terkenal dengan kekonduksian terma yang tinggi dan kestabilan. TheSalutan SiCmenyediakan permukaan pelindung yang keras dan tahan kakisan dan degradasi pada suhu tinggi.
2. Suseptor silikon karbida (SiC): Suseptor ini diperbuat sepenuhnya daripada SiC dan mempunyai kestabilan terma yang sangat baik dan rintangan haus. Suseptor SiC amat sesuai untuk proses suhu tinggi dan persekitaran yang menghakis.
Cara suseptor berfungsi dalam MOCVD:
Dalam proses MOCVD, prekursor dimasukkan ke dalam ruang tindak balas di mana ia terurai dan bertindak balas untuk membentuk filem nipis pada substrat. Susceptor memainkan peranan penting dengan memastikan substrat dipanaskan secara sama rata, yang penting untuk mencapai sifat filem yang konsisten merentas seluruh permukaan substrat. Bahan dan reka bentuk susceptor dipilih dengan teliti untuk memenuhi keperluan khusus proses pemendapan, seperti julat suhu dan keserasian kimia.
Faedah menggunakan susceptor berkualiti tinggi:
• Kualiti filem yang dipertingkatkan: Dengan menyediakan pengagihan haba yang seragam, susceptor membantu mencapai filem dengan ketebalan dan komposisi yang konsisten, yang penting kepada prestasi peranti semikonduktor.
• Kecekapan proses yang dipertingkatkan: Susceptor berkualiti tinggi meningkatkan kecekapan keseluruhan proses MOCVD dengan mengurangkan kemungkinan kecacatan dan meningkatkan hasil filem yang boleh digunakan.
• Jangka hayat dan kebolehpercayaan: Susceptor yang diperbuat daripada bahan tahan lama seperti SiC memastikan kebolehpercayaan jangka panjang dan mengurangkan kos penyelenggaraan.
Susceptor adalah komponen penting dalam proses MOCVD dan secara langsung mempengaruhi kualiti dan kecekapan pemendapan filem nipis. Untuk maklumat lanjut mengenai saiz yang tersedia, susceptor MOCVD dan harga, sila jangan teragak-agak untuk menghubungi kami. Jurutera kami dengan senang hati akan menasihati anda tentang bahan yang sesuai dan menjawab semua soalan anda.
Telefon: +86-13373889683
WhatsApp: +86-15957878134
Email: sales01@semi-cera.com
Masa siaran: 12 Ogos 2024