Apakah Salutan SiC Silicon Carbide?
Salutan Silicon Carbide (SiC) ialah teknologi revolusioner yang memberikan perlindungan dan prestasi luar biasa dalam persekitaran suhu tinggi dan reaktif secara kimia. Salutan lanjutan ini digunakan pada pelbagai bahan, termasuk grafit, seramik dan logam, untuk meningkatkan sifatnya, menawarkan perlindungan unggul terhadap kakisan, pengoksidaan dan haus. Sifat unik salutan SiC, termasuk ketulenan tinggi, kekonduksian terma yang sangat baik, dan integriti struktur, menjadikannya sesuai untuk digunakan dalam industri seperti pembuatan semikonduktor, aeroangkasa dan teknologi pemanasan berprestasi tinggi.
Kelebihan salutan silikon karbida
Salutan SiC menawarkan beberapa faedah utama yang membezakannya daripada salutan pelindung tradisional:
- -Ketumpatan Tinggi & Rintangan Kakisan
- Struktur SiC padu memastikan salutan berketumpatan tinggi, meningkatkan rintangan kakisan dengan ketara dan memanjangkan jangka hayat komponen.
- -Liputan Luar Biasa bagi Bentuk Kompleks
- Salutan SiC terkenal dengan liputannya yang sangat baik, walaupun dalam lubang buta kecil dengan kedalaman sehingga 5 mm, menawarkan ketebalan seragam hingga 30% pada titik paling dalam.
- -Kekasaran Permukaan Boleh Disesuaikan
- Proses salutan boleh disesuaikan, membenarkan kekasaran permukaan yang berbeza-beza untuk memenuhi keperluan aplikasi tertentu.
- -Salutan Ketulenan Tinggi
- Dicapai melalui penggunaan gas ketulenan tinggi, salutan SiC kekal sangat tulen, dengan tahap kekotoran lazimnya di bawah 5 ppm. Ketulenan ini penting untuk industri berteknologi tinggi yang memerlukan ketepatan dan pencemaran yang minimum.
- -Kestabilan Terma
- Salutan seramik silikon karbida boleh menahan suhu yang melampau, dengan suhu operasi maksimum sehingga 1600°C, memastikan kebolehpercayaan dalam persekitaran suhu tinggi.
Aplikasi Salutan SiC
Salutan SiC digunakan secara meluas merentasi pelbagai industri untuk prestasinya yang tiada tandingan dalam persekitaran yang mencabar. Aplikasi utama termasuk:
- -Industri LED & Solar
- Salutan juga digunakan untuk komponen dalam pembuatan LED dan sel solar, di mana ketulenan tinggi dan rintangan suhu adalah penting.
- -Teknologi Pemanasan Suhu Tinggi
- Grafit bersalut SiC dan bahan lain digunakan dalam elemen pemanas untuk relau dan reaktor yang digunakan dalam pelbagai proses perindustrian.
- -Pertumbuhan Kristal Semikonduktor
- Dalam pertumbuhan kristal semikonduktor, salutan SiC digunakan untuk melindungi komponen yang terlibat dalam pertumbuhan silikon dan kristal semikonduktor lain, menawarkan rintangan kakisan yang tinggi dan kestabilan terma.
- -Silikon dan SiC Epitaxy
- Salutan SiC digunakan pada komponen dalam proses pertumbuhan epitaxial silikon dan silikon karbida (SiC). Salutan ini menghalang pengoksidaan, pencemaran, dan memastikan kualiti lapisan epitaxial, yang penting untuk pengeluaran peranti semikonduktor berprestasi tinggi.
- -Proses Pengoksidaan dan Resapan
- Komponen bersalut SiC digunakan dalam proses pengoksidaan dan resapan, di mana ia memberikan penghalang yang berkesan terhadap kekotoran yang tidak diingini dan meningkatkan integriti produk akhir. Salutan meningkatkan umur panjang dan kebolehpercayaan komponen yang terdedah kepada langkah pengoksidaan atau resapan suhu tinggi.
Sifat Utama Salutan SiC
Salutan SiC menawarkan rangkaian sifat yang meningkatkan prestasi dan ketahanan komponen bersalut sic:
- -Struktur Kristal
- Salutan biasanya dihasilkan dengan aβ 3C (kubik) kristalstruktur, yang isotropik dan menawarkan perlindungan kakisan yang optimum.
- -Ketumpatan dan Keliangan
- Salutan SiC mempunyai ketumpatan3200 kg/m³dan pameran0% keliangan, memastikan prestasi ketat kebocoran helium dan rintangan kakisan yang berkesan.
- -Sifat Terma dan Elektrik
- Salutan SiC mempunyai kekonduksian haba yang tinggi(200 W/m·K)dan kerintangan elektrik yang sangat baik(1MΩ·m), menjadikannya sesuai untuk aplikasi yang memerlukan pengurusan haba dan penebat elektrik.
- -Kekuatan Mekanikal
- Dengan modulus anjal sebanyak450 GPa, salutan SiC memberikan kekuatan mekanikal yang unggul, meningkatkan integriti struktur komponen.
Proses salutan silikon karbida SiC
Salutan SiC digunakan melalui Pemendapan Wap Kimia (CVD), satu proses yang melibatkan penguraian terma gas untuk memendapkan lapisan SiC nipis pada substrat. Kaedah pemendapan ini membolehkan kadar pertumbuhan yang tinggi dan kawalan tepat ke atas ketebalan lapisan, yang boleh terdiri daripada10 µm hingga 500 µm, bergantung pada aplikasi. Proses salutan juga memastikan liputan seragam, walaupun dalam geometri kompleks seperti lubang kecil atau dalam, yang biasanya mencabar untuk kaedah salutan tradisional.
Bahan Sesuai untuk Salutan SiC
Salutan SiC boleh digunakan pada pelbagai bahan, termasuk:
- -Grafit dan Komposit Karbon
- Grafit ialah substrat yang popular untuk salutan SiC kerana sifat terma dan elektrik yang sangat baik. Salutan SiC menyusup ke dalam struktur berliang grafit, mewujudkan ikatan yang dipertingkatkan dan memberikan perlindungan yang unggul.
- -Seramik
- Seramik berasaskan silikon seperti SiC, SiSiC dan RSiC mendapat manfaat daripada salutan SiC, yang meningkatkan ketahanan kakisannya dan menghalang penyebaran kekotoran.
Mengapa Memilih Salutan SiC?
Salutan permukaan menyediakan penyelesaian yang serba boleh dan kos efektif untuk industri yang menuntut ketulenan tinggi, rintangan kakisan dan kestabilan terma. Sama ada anda bekerja dalam sektor semikonduktor, aeroangkasa atau pemanasan berprestasi tinggi, salutan SiC memberikan perlindungan dan prestasi yang anda perlukan untuk mengekalkan kecemerlangan operasi. Gabungan struktur padu berketumpatan tinggi, sifat permukaan yang boleh disesuaikan dan keupayaan untuk menyalut geometri kompleks memastikan elemen bersalut sic boleh menahan walaupun persekitaran yang paling mencabar.
Untuk maklumat lanjut atau membincangkan bagaimana salutan seramik silikon karbida boleh memberi manfaat kepada aplikasi khusus anda, silahubungi kami.
Masa siaran: 12 Ogos 2024