Tantalum karbida (TaC)ialah sebatian binari tantalum dan karbon dengan formula kimia TaC x, di mana x biasanya berbeza antara 0.4 dan 1. Ia adalah bahan seramik yang sangat keras, rapuh, refraktori dengan kekonduksian logam. Ia adalah serbuk kelabu perang dan biasanya diproses dengan pensinteran.
Tantalum karbidaadalah bahan seramik logam yang penting. Satu penggunaan tantalum karbida yang sangat penting ialah salutan tantalum karbida.
Ciri-ciri produk salutan tantalum karbida
Takat lebur yang tinggi: Takat lebur bagitantalum karbidaadalah setinggi3880°C, yang menjadikannya stabil dalam persekitaran suhu tinggi dan tidak mudah cair atau terdegradasi.
Keadaan kerja:Secara amnya, keadaan kerja biasa Tantalum karbida (TaC) ialah 2200°C. Memandangkan takat leburnya yang sangat tinggi, TaC direka bentuk untuk menahan suhu setinggi itu tanpa kehilangan integriti strukturnya.
Kekerasan dan rintangan haus: Ia mempunyai kekerasan yang sangat tinggi (kekerasan Mohs adalah kira-kira 9-10) dan boleh menahan haus dan calar dengan berkesan.
Kestabilan kimia: Ia mempunyai kestabilan kimia yang baik terhadap kebanyakan asid dan alkali dan boleh menahan kakisan dan tindak balas kimia.
Kekonduksian terma: Kekonduksian terma yang baik membolehkannya menyebarkan dan mengalirkan haba dengan berkesan, mengurangkan kesan pengumpulan haba pada bahan.
Senario aplikasi dan kelebihan dalam industri semikonduktor
peralatan MOCVD: Dalam peralatan MOCVD (pemendapan wap kimia),salutan tantalum karbidadigunakan untuk melindungi ruang tindak balas dan komponen suhu tinggi yang lain, mengurangkan hakisan peralatan oleh deposit, dan memanjangkan hayat perkhidmatan peralatan.
Kelebihan: Meningkatkan rintangan suhu tinggi peralatan, mengurangkan kekerapan penyelenggaraan dan kos, dan meningkatkan kecekapan pengeluaran.
Pemprosesan wafer: Digunakan dalam pemprosesan wafer dan sistem penghantaran, salutan tantalum karbida boleh meningkatkan rintangan haus dan rintangan kakisan peralatan.
Kelebihan: Mengurangkan masalah kualiti produk yang disebabkan oleh haus atau kakisan, dan memastikan kestabilan dan konsistensi pemprosesan wafer.
Alat proses semikonduktor: Dalam alat proses semikonduktor, seperti implan ion dan etsa, salutan tantalum karbida boleh meningkatkan ketahanan alatan.
Kelebihan: Memanjangkan hayat perkhidmatan alatan, mengurangkan masa henti dan kos penggantian, dan meningkatkan kecekapan pengeluaran.
Kawasan suhu tinggi: Dalam komponen elektronik dan peranti dalam persekitaran suhu tinggi, salutan tantalum karbida digunakan untuk melindungi bahan daripada suhu tinggi.
Kelebihan: Memastikan kestabilan dan kebolehpercayaan komponen elektronik di bawah keadaan suhu yang melampau.
Trend Pembangunan Masa Depan
Penambahbaikan Bahan: Dengan perkembangan sains bahan, perumusan dan teknologi pemendapansalutan tantalum karbidaakan terus menambah baik untuk meningkatkan prestasinya dan mengurangkan kos. Sebagai contoh, bahan salutan yang lebih tahan lama dan kos rendah boleh dibangunkan.
Teknologi Pemendapan: Teknologi pemendapan yang lebih cekap dan tepat boleh didapati, seperti teknologi PVD dan CVD yang dipertingkatkan, untuk mengoptimumkan kualiti dan prestasi salutan tantalum karbida.
Kawasan Permohonan Baru: Kawasan aplikasi bagisalutan tantalum karbidaakan berkembang kepada lebih banyak bidang berteknologi tinggi dan perindustrian, seperti aeroangkasa, tenaga dan industri automotif, untuk memenuhi permintaan bagi bahan berprestasi tinggi.
Masa siaran: Ogos-08-2024