Substrat alumina semikonduktor

Penerangan Ringkas:

Kegunaan utama alumina (Al2O3).

Bahagian peralatan pembuatan semikonduktor (bahagian rongga, bebibir penebat, bahagian peralatan etsa, chuck wafer);Bahagian penghancur (pengelas, kilang udara, kilang manik);Komponen industri am (muncung mesin pemprosesan laser, aci, galas);Alat metalurgi berketepatan tinggi, ketepatan, tahan haba (lekapan kedudukan, lekapan pemasangan);Bahagian tahan haus (penggelek panduan mesin lukisan, saluran wayar, rel panduan);Bahagian penebat elektrik (penebat, gasket, sesendal).

Hantar e-mel kepada kami

Butiran Produk

Tag Produk

Seramik alumina

1. Kekerasan tinggi

Kekerasan Rockwell ialah HRA80-90, kekerasannya lebih rendah daripada berlian, jauh lebih banyak daripada rintangan haus keluli tahan haus dan keluli tahan karat.

2. rintangan haus yang sangat baik

Diukur oleh institusi penyelidikan profesional, rintangan hausnya bersamaan dengan 266 kali ganda keluli mangan.Gaoming besi tuang 171.5 kali, mengikut lebih daripada sepuluh tahun tinjauan penjejakan pelanggan kami, di bawah keadaan kerja yang sama, boleh memanjangkan hayat perkhidmatan peralatan sekurang-kurangnya sepuluh kali lebih.

3. Berat ringan

Ketumpatannya 3.5g/cm3 hanya separuh daripada keluli, yang boleh mengurangkan beban peralatan.

Ciri-ciri:

Tinggi mkekuatan ekanikal

Kerintangan tinggi dan penebat yang baik

Kekerasan Mohs 9 dan rintangan haus yang sangat baik

Takat lebur yang tinggi dan rintangan kakisan

Baik skestabilan

Sifat optik

Kekonduksian ionik

Industri aplikasi: Jentera, elektronik, kimia, petroleum dll.
Aplikasi khusus: Substrat seramik elektrik, pelocok, cincin pengedap dsb.