4″ 6″ Substrat SiC Separa Penebat

Penerangan ringkas:

Substrat SiC separa penebat ialah bahan semikonduktor dengan kerintangan tinggi, dengan kerintangan lebih tinggi daripada 100,000Ω·cm. Substrat SiC separa penebat digunakan terutamanya untuk mengeluarkan peranti RF gelombang mikro seperti peranti RF gelombang mikro galium nitrida dan transistor mobiliti elektron tinggi (HEMT). Peranti ini digunakan terutamanya dalam komunikasi 5G, komunikasi satelit, radar dan bidang lain.


Butiran Produk

Tag Produk

Substrat SiC Separa Penebat 4" 6" Semicera ialah bahan berkualiti tinggi yang direka untuk memenuhi keperluan ketat aplikasi peranti RF dan kuasa. Substrat itu menggabungkan kekonduksian terma yang sangat baik dan voltan pecahan tinggi silikon karbida dengan sifat separa penebat, menjadikannya pilihan ideal untuk membangunkan peranti semikonduktor termaju.

Substrat SiC Separa Penebat 4" 6" dihasilkan dengan teliti untuk memastikan bahan ketulenan tinggi dan prestasi separa penebat yang konsisten. Ini memastikan bahawa substrat menyediakan pengasingan elektrik yang diperlukan dalam peranti RF seperti penguat dan transistor, di samping menyediakan kecekapan terma yang diperlukan untuk aplikasi berkuasa tinggi. Hasilnya ialah substrat serba boleh yang boleh digunakan dalam pelbagai produk elektronik berprestasi tinggi.

Semicera mengiktiraf kepentingan menyediakan substrat yang boleh dipercayai dan bebas kecacatan untuk aplikasi semikonduktor kritikal. Substrat SiC Separa Penebat 4" 6" kami dihasilkan menggunakan teknik pembuatan termaju yang meminimumkan kecacatan kristal dan meningkatkan keseragaman bahan. Ini membolehkan produk menyokong pembuatan peranti dengan prestasi, kestabilan dan seumur hidup yang dipertingkatkan.

Komitmen Semicera terhadap kualiti memastikan Substrat SiC Separa Penebat 4" 6" kami memberikan prestasi yang boleh dipercayai dan konsisten merentas pelbagai aplikasi. Sama ada anda sedang membangunkan peranti frekuensi tinggi atau penyelesaian kuasa cekap tenaga, substrat SiC separa penebat kami menyediakan asas untuk kejayaan elektronik generasi akan datang.

Parameter asas

Saiz

6 inci 4 inci
Diameter 150.0mm+0mm/-0.2mm 100.0mm+0mm/-0.5mm
Orientasi Permukaan {0001}±0.2°
Orientasi Rata Utama / <1120>±5°
Orientasi Rata Menengah / Silikon menghadap ke atas:90° CW dari Prime flat士5°
Panjang Rata Utama / 32.5 mm 士2.0 mm
Panjang Rata Sekunder / 18.0 mm士2.0 mm
Orientasi Takik <1100>±1.0° /
Orientasi Takik 1.0mm+0.25 mm/-0.00 mm /
Sudut Takik 90°+5°/-1° /
Ketebalan 500.0um士25.0um
Jenis Konduktif Separa penebat

Maklumat kualiti kristal

ltem 6 inci 4 inci
Kerintangan ≥1E9Q·cm
Politaip Tiada yang dibenarkan
Ketumpatan Mikropaip ≤0.5/cm2 ≤0.3/cm2
Plat Hex oleh cahaya keamatan tinggi Tiada yang dibenarkan
Kemasukan Karbon Visual dengan tinggi Luas kumulatif≤0.05%
4 6 Substrat SiC Separa Penebat-2

Kerintangan-Diuji oleh rintangan helaian bukan sentuhan.

4 6 Substrat SiC Separa Penebat-3

Ketumpatan Mikropaip

4 6 Substrat SiC Separa Penebat-4
wafer SiC

  • Sebelumnya:
  • Seterusnya: