Bahagian Tersuai Salutan Tantalum Carbide TaC CVD

Penerangan Ringkas:

Dengan kemunculan wafer silikon karbida (SiC) 8 inci, keperluan untuk pelbagai proses semikonduktor menjadi semakin ketat, terutamanya untuk proses epitaksi di mana suhu boleh melebihi 2000 darjah Celsius.Bahan susceptor tradisional, seperti grafit yang disalut dengan silikon karbida, cenderung untuk menyublim pada suhu tinggi ini, mengganggu proses epitaksi.Walau bagaimanapun, CVD tantalum carbide (TaC) berkesan menangani isu ini, menahan suhu sehingga 2300 darjah Celsius dan menawarkan hayat perkhidmatan yang lebih lama.Hubungi Semicera's Bahagian Tersuai Salutan Tantalum Carbide TaC CVDuntuk meneroka lebih lanjut tentang penyelesaian lanjutan kami.

 


Butiran Produk

Tag Produk

Semicera menyediakan salutan tantalum karbida (TaC) khusus untuk pelbagai komponen dan pembawa.Proses salutan terkemuka Semicera membolehkan salutan tantalum karbida (TaC) mencapai ketulenan tinggi, kestabilan suhu tinggi dan toleransi kimia yang tinggi, meningkatkan kualiti produk kristal SIC/GAN dan lapisan EPI (Suseptor TaC bersalut grafit), dan memanjangkan hayat komponen reaktor utama.Penggunaan salutan TaC tantalum karbida adalah untuk menyelesaikan masalah kelebihan dan meningkatkan kualiti pertumbuhan kristal, dan Semicera telah memecahkan teknologi salutan tantalum karbida (CVD), mencapai tahap lanjutan antarabangsa.

 

Dengan kemunculan wafer silikon karbida (SiC) 8 inci, keperluan untuk pelbagai proses semikonduktor menjadi semakin ketat, terutamanya untuk proses epitaksi di mana suhu boleh melebihi 2000 darjah Celsius.Bahan susceptor tradisional, seperti grafit yang disalut dengan silikon karbida, cenderung untuk menyublim pada suhu tinggi ini, mengganggu proses epitaksi.Walau bagaimanapun, CVD tantalum carbide (TaC) berkesan menangani isu ini, menahan suhu sehingga 2300 darjah Celsius dan menawarkan hayat perkhidmatan yang lebih lama.Hubungi Semicera's Bahagian Tersuai Salutan Tantalum Carbide TaC CVDuntuk meneroka lebih lanjut tentang penyelesaian lanjutan kami.

Selepas bertahun-tahun pembangunan, Semicera telah menakluki teknologiCVD TaCdengan usaha bersama jabatan R&D.Kecacatan mudah berlaku dalam proses pertumbuhan wafer SiC, tetapi selepas digunakanTaC, perbezaannya adalah ketara.Di bawah ialah perbandingan wafer dengan dan tanpa TaC, serta bahagian Simicera' untuk pertumbuhan kristal tunggal.

微信图片_20240227150045

dengan dan tanpa TaC

微信图片_20240227150053

Selepas menggunakan TaC (kanan)

Lebih-lebih lagi, Semicera'sProduk bersalut TaCmempamerkan hayat perkhidmatan yang lebih lama dan rintangan suhu tinggi yang lebih besar berbanding dengansalutan SiC.Pengukuran makmal telah menunjukkan bahawa kamisalutan TaCboleh berprestasi secara konsisten pada suhu sehingga 2300 darjah Celsius untuk tempoh yang lama.Berikut adalah beberapa contoh sampel kami:

 
0(1)
Tempat kerja Semicera
Tempat kerja Semicera 2
Mesin peralatan
Rumah Gudang Semicera
Pemprosesan CNN, pembersihan kimia, salutan CVD
Perkhidmatan kami

  • Sebelumnya:
  • Seterusnya: