Substrat sic jenis n 6 inci

Penerangan ringkas:

Substrat SiC jenis n 6 inci‌ ialah bahan semikonduktor yang dicirikan oleh penggunaan saiz wafer 6 inci, yang meningkatkan bilangan peranti yang boleh dihasilkan pada satu wafer pada kawasan permukaan yang lebih besar, sekali gus mengurangkan kos peringkat peranti . Pembangunan dan penggunaan substrat SiC jenis-n 6 inci mendapat manfaat daripada kemajuan teknologi seperti kaedah pertumbuhan RAF, yang mengurangkan kehelan dengan memotong hablur di sepanjang kehelan dan arah selari serta hablur tumbuh semula, dengan itu meningkatkan kualiti substrat. Penggunaan substrat ini sangat penting untuk meningkatkan kecekapan pengeluaran dan mengurangkan kos peranti kuasa SiC.

 


Butiran Produk

Tag Produk

Bahan kristal tunggal silikon karbida (SiC) mempunyai lebar jurang jalur yang besar (~Si 3 kali), kekonduksian haba yang tinggi (~Si 3.3 kali atau GaAs 10 kali), kadar migrasi tepu elektron tinggi (~Si 2.5 kali), elektrik pecahan tinggi medan (~Si 10 kali atau GaAs 5 kali) dan ciri-ciri cemerlang lain.

Bahan semikonduktor generasi ketiga terutamanya termasuk SiC, GaN, berlian, dsb., kerana lebar jurang jalurnya (Eg) lebih besar daripada atau sama dengan 2.3 volt elektron (eV), juga dikenali sebagai bahan semikonduktor jurang jalur lebar. Berbanding dengan bahan semikonduktor generasi pertama dan kedua, bahan semikonduktor generasi ketiga mempunyai kelebihan kekonduksian haba yang tinggi, medan elektrik pecahan tinggi, kadar penghijrahan elektron tepu yang tinggi dan tenaga ikatan yang tinggi, yang boleh memenuhi keperluan baru teknologi elektronik moden untuk tinggi. suhu, kuasa tinggi, tekanan tinggi, frekuensi tinggi dan rintangan sinaran dan keadaan keras yang lain. Ia mempunyai prospek aplikasi yang penting dalam bidang pertahanan negara, penerbangan, aeroangkasa, penerokaan minyak, penyimpanan optik, dan lain-lain, dan boleh mengurangkan kehilangan tenaga lebih daripada 50% dalam banyak industri strategik seperti komunikasi jalur lebar, tenaga suria, pembuatan kereta, pencahayaan semikonduktor, dan grid pintar, dan boleh mengurangkan volum peralatan lebih daripada 75%, yang merupakan peristiwa penting untuk pembangunan sains dan teknologi manusia.

Tenaga Semicera boleh menyediakan pelanggan dengan substrat silikon karbida Konduktif (Konduktif), Separa penebat (Separuh penebat), HPSI (Separa penebat Ketulenan Tinggi) berkualiti tinggi; Di samping itu, kami boleh menyediakan pelanggan dengan kepingan epitaxial silikon karbida homogen dan heterogen; Kami juga boleh menyesuaikan helaian epitaxial mengikut keperluan khusus pelanggan, dan tidak ada kuantiti pesanan minimum.

SPESIFIKASI PRODUK ASAS

Saiz

 6 inci
Diameter 150.0mm+0mm/-0.2mm
Orientasi Permukaan luar paksi:4°ke arah<1120>±0.5°
Panjang Rata Utama 47.5mm1.5 mm
Orientasi Rata Utama <1120>±1.0°
Flat Sekunder tiada
Ketebalan 350.0um±25.0um
Politaip 4H
Jenis Konduktif jenis-n

SPESIFIKASI KUALITI KRISTAL

6 inci
item Gred P-MOS Gred P-SBD
Kerintangan 0.015Ω·sm-0.025Ω·sm
Politaip Tiada yang dibenarkan
Ketumpatan Mikropaip ≤0.2/cm2 ≤0.5/cm2
EPD ≤4000/cm2 ≤8000/cm2
TED ≤3000/cm2 ≤6000/cm2
BPD ≤1000/cm2 ≤2000/cm2
TSD ≤300/cm2 ≤1000/cm2
SF(Diukur olehUV-PL-355nm) ≤0.5% kawasan ≤1% kawasan
Plat heks dengan cahaya keamatan tinggi Tiada yang dibenarkan
Kemasukan Karbon Visual oleh cahaya keamatan tinggi Luas kumulatif≤0.05%
微信截图_20240822105943

Kerintangan

Politaip

Substrat sic jenis n 6 lnch (3)
Substrat sic jenis n 6 lnch (4)

BPD&TSD

Substrat sic jenis n 6 lnch (5)
wafer SiC

  • Sebelumnya:
  • Seterusnya: