Proses bersalut SiC untuk Pembawa Grafit Bersalut SiC asas grafit

Penerangan Ringkas:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. ialah pembekal utama seramik semikonduktor termaju.Produk utama kami termasuk: Cakera terukir silikon karbida, treler bot silikon karbida, kapal wafer silikon karbida (PV & Semikonduktor), tiub relau silikon karbida, dayung julur silikon karbida, chuck silikon karbida, rasuk silikon karbida, serta salutan SiC CVD dan salutan TaC.
Produk ini digunakan terutamanya dalam industri semikonduktor dan fotovoltaik, seperti pertumbuhan kristal, epitaksi, etsa, pembungkusan, salutan dan peralatan relau resapan.

 

Butiran Produk

Tag Produk

Penerangan

Kami mengekalkan toleransi yang sangat rapat apabila menggunakanSalutan SiC, menggunakan pemesinan berketepatan tinggi untuk memastikan profil susceptor seragam.Kami juga menghasilkan bahan dengan sifat rintangan elektrik yang ideal untuk digunakan dalam sistem yang dipanaskan secara induktif.Semua komponen siap disertakan dengan sijil pematuhan ketulenan dan dimensi.

Syarikat kami menyediakanSalutan SiCperkhidmatan proses melalui kaedah CVD pada permukaan grafit, seramik dan bahan-bahan lain, supaya gas khas yang mengandungi karbon dan silikon bertindak balas pada suhu tinggi untuk mendapatkan molekul SiC ketulenan tinggi, molekul didepositkan pada permukaan bahan bersalut, membentuk lapisan pelindung SIC.SIC yang terbentuk diikat kuat pada asas grafit, memberikan sifat istimewa asas grafit, dengan itu menjadikan permukaan grafit padat, Bebas Poros, rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan dan rintangan pengoksidaan.

gf (1)

Proses CVD memberikan ketulenan yang sangat tinggi dan ketumpatan teoriSalutan SiCtanpa keliangan.Lebih-lebih lagi, kerana silikon karbida sangat keras, ia boleh digilap ke permukaan seperti cermin.Salutan silikon karbida (SiC) CVDmenyampaikan beberapa kelebihan termasuk permukaan ketulenan ultra tinggi dan ketahanan haus yang sangat tinggi.Oleh kerana produk bersalut mempunyai prestasi hebat dalam keadaan vakum tinggi dan suhu tinggi, ia sesuai untuk aplikasi dalam industri semikonduktor dan persekitaran ultra-bersih yang lain.Kami juga menyediakan produk grafit pirolitik (PG).

 

Ciri-ciri utama

1. Rintangan pengoksidaan suhu tinggi:
rintangan pengoksidaan masih sangat baik apabila suhu setinggi 1600 C.
2. Ketulenan tinggi: dibuat oleh pemendapan wap kimia di bawah keadaan pengklorinan suhu tinggi.
3. Rintangan hakisan: kekerasan tinggi, permukaan padat, zarah halus.
4. Rintangan kakisan: asid, alkali, garam dan reagen organik.

Utama-05

Utama-04

Utama-03

Spesifikasi Utama Salutan CVD-SIC

SiC-CVD
Ketumpatan (g/cc) 3.21
Kekuatan lenturan (Mpa) 470
Pengembangan terma (10-6/K) 4
Kekonduksian terma (W/mK) 300

Permohonan

Salutan silikon karbida CVD telah pun digunakan dalam industri semikonduktor, seperti dulang MOCVD, RTP dan ruang goresan oksida kerana silikon nitrida mempunyai rintangan kejutan haba yang hebat dan boleh menahan plasma tenaga tinggi.
-Silicon carbide digunakan secara meluas dalam semikonduktor dan salutan.

Permohonan

Keupayaan bekalan:
10000 Keping/Keping setiap Bulan
Pembungkusan & Penghantaran:
Pembungkusan: Pembungkusan Standard & Kuat
Beg poli + Kotak + Kadbod + Pallet
Pelabuhan:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Masa Utama:

Kuantiti (Kepingan) 1 – 1000 >1000
AnggaranMasa(hari) 15 Untuk dirundingkan
Tempat kerja Semicera
Tempat kerja Semicera 2
Mesin peralatan
Pemprosesan CNN, pembersihan kimia, salutan CVD
Perkhidmatan kami

  • Sebelumnya:
  • Seterusnya: