Susceptors Asas Grafit Bersalut SiC untuk MOCVD

Penerangan ringkas:

Susceptors Asas Grafit Bersalut SiC yang unggul untuk MOCVD oleh Semicera, direka untuk merevolusikan proses pertumbuhan semikonduktor anda. Susceptor tercanggih Semicera, menampilkan asas grafit yang disalut dengan SiC berkualiti tinggi, menawarkan prestasi dan kecekapan yang tiada tandingan dalam aplikasi MOCVD.


Butiran Produk

Tag Produk

Penerangan

Susceptors Asas Grafit Bersalut SiCuntuk MOCVD daripada semicera direka bentuk untuk memberikan prestasi luar biasa dalam proses pertumbuhan epitaxial. Salutan silikon karbida berkualiti tinggi pada asas grafit memastikan kestabilan, ketahanan dan kekonduksian terma yang optimum semasa operasi MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition). Dengan menggunakan teknologi susceptor inovatif semicera, anda boleh mencapai ketepatan dan kecekapan yang dipertingkatkan dalamSi EpitaksidanEpitaksi SiCaplikasi.

IniSusceptors MOCVDdireka bentuk untuk menyokong rangkaian komponen semikonduktor penting, sepertiPembawa Etching PSS, Pembawa Etching ICP, danPembawa RTP, menjadikannya serba boleh untuk pelbagai tugas etsa dan epitaxial. Komitmen Semicera terhadap piawaian tinggi memastikan susceptor ini memenuhi permintaan ketat pengeluaran semikonduktor moden.

Ideal untuk digunakan dalamEpitaxial LEDSusceptor, Barrel Susceptor, dan Monocrystalline Silicon proses, susceptor ini boleh disesuaikan untuk saiz wafer yang berbeza, termasuk konfigurasi Pancake Susceptor. Ia juga sangat berkesan dalam mengendalikan Bahagian Fotovoltaik, menjadikannya komponen penting dalam pembangunan sel suria yang cekap.

Selain itu, Susceptors Asas Grafit Bersalut SiC untuk MOCVD dioptimumkan untuk GaN pada SiC Epitaxy, menawarkan keserasian tinggi dengan bahan semikonduktor termaju. Sama ada anda menumpukan pada meningkatkan hasil atau meningkatkan kualiti pertumbuhan epitaxial, susceptor semicera memberikan kebolehpercayaan dan prestasi yang diperlukan untuk kejayaan dalam industri berteknologi tinggi.

 

Ciri-ciri Utama

1. Grafit bersalut SiC ketulenan tinggi

2. Rintangan haba yang unggul & keseragaman haba

3. Baiklahbersalut kristal SiCuntuk permukaan licin

4. Ketahanan tinggi terhadap pembersihan kimia

 

Spesifikasi Utama Salutan CVD-SIC:

SiC-CVD
Ketumpatan (g/cc) 3.21
Kekuatan lentur (Mpa) 470
Pengembangan terma (10-6/K) 4
Kekonduksian terma (W/mK) 300

Pembungkusan dan Penghantaran

Keupayaan Bekalan:
10000 Keping/Keping setiap Bulan
Pembungkusan & Penghantaran:
Pembungkusan: Pembungkusan Standard & Kuat
Beg poli + Kotak + Kadbod + Pallet
Pelabuhan:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Masa Utama:

Kuantiti (Kepingan)

1-1000

>1000

Anggaran Masa(hari) 30 Untuk dirundingkan
Tempat kerja Semicera
Tempat kerja Semicera 2
Mesin peralatan
Pemprosesan CNN, pembersihan kimia, salutan CVD
Rumah Gudang Semicera
Perkhidmatan kami

  • Sebelumnya:
  • Seterusnya: